设备名称：超高真空多功能磁控溅射设备

型号：JGP500D1

负责人：李翠平

设备简介：JGP500D1超高真空多功能磁控溅射设备主要由溅射室、进样室、磁控溅射靶、直流脉冲溅射电源、射频匹配电源、脉冲偏压电源、样品台、加热、真空系统、气路系统、半自动控制系统等组成;该设备主机与控制一体化设计，操控方便，结构紧凑，占地面积小。

该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。

主要适用于开发纳米级单层、多层及复合膜层等;制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜、介质膜等，例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、氮化钛、氮化铬、ITO、二氧化硅等;