设备名称：多功能磁控与离子束联合沉积系统

设备型号：FJL560

负责人：张楷亮

设备简介：多功能磁控与离子束联合沉积系统可以单独或同时进行磁控溅射和离子束溅射镀膜；可用于制备纳米量级的Al、Fe、Ti、Cu、Ni等金属膜，纳米量级的SiO2、V2O5、HfO2、NiO、WO3、TiO2等半导体膜；具有确认靶位功能、溅射镀膜时间控制、回转控制功能和靶的遮挡功能；可以在保持真空的状态下，依次进行3种不同材料的镀膜，薄膜致密，均匀性好。