设备名称：电子束曝光系统

设备型号：Raith-e-LINE plus

负责人：张楷亮

设备简介：eLINE Plus是一款高性能电子束曝光（EBL）系统，主要用微纳电子器件图形曝光，它能同时应用多种纳米加工技术，使用包括高精度激光干涉样品台、高速高精度图形发生器、图形识别自动套刻等先进的电子束曝光技术，能够满足超高分辨率和大面积图形的微纳加工要求，可用于亚微米图像的电子束直写，可用于4inch以下样品的图形曝光。