设备名称：直流等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜设备

设备型号：LP60

负责人：李明吉

设备简介：等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，利用等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体放电，使反应气体激活并实现化学气相沉积的技术。主要用于制备石墨烯/金刚石薄膜。