设备名称：原子层沉积系统

设备型号：SI ALD型

设备负责人：胡凯

设备简介：原子层沉积系统选型为德国SENTECH公司生产的SI ALD型。该设备采用加热（T-ALD）或等离子增强（PEALD）方式、通过周期性的原子层级化学反应、实现沉积镀膜，可用于沉积几纳米厚的薄膜，有出色的均匀性和优异的3D结构覆盖一致性。仪器配备能充分满足相关科研与教学需求。