设备名称：多功能等离子增强化学气相沉积系统

设备型号：PECVD400型

负责人：李微

设备简介：设备主要由真空和压力控制系统、淀积系统、气体及流量控制、系统安全保护系等部分组成。采用等离子体增强化学气相沉积技术，根据不同的研究内容，可以在光学玻璃、硅片、石英、不锈钢片等很多不同衬底材料上，沉积薄膜，达到研究目的。