设备名称：多功能微波等离子化学气相沉积系统

设备型号：MPCVD-I

负责人：李明吉

设备简介：多功能微波等离子化学气相沉积系统由微波管产生2450Mhz微波经波导系统和石英窗平行于磁场注入微波ECR腔室；微波在ECR共振层加热电子，电离充入真空室中的工作气体产生高密度等离子体。等离子体沿着发散场磁力线扩散至下游处理室，在基片表面沉积成所需薄膜。