设备名称：热丝CVD和掺杂金刚石沉积系统

设备型号：JDCY-20-500，JDCY-1000-50

负责人：李明吉

设备简介：热丝CVD和掺杂金刚石沉积系统的基本原理是在灯丝两端施加电流，点亮灯丝，使灯丝周围形成高温环境。氢气、碳源(甲烷等)等的混合气体在高温环境下发生分解、脱氢等化学反应，形成了具有化学活性的基团，即原子态氢和甲基基团等。活性基团在适当温度的衬底表面发生反应，进行沉积。石墨碳被原子氢刻蚀后成为碳氢化合物活性基团继续参与气相反应。主要用于制备石墨烯/金刚石薄膜。